C-43型 9英寸 国产高精度光刻机 多点光源曝光头

C-43型9英寸国产高精度光刻机多点光源曝光头是一款专用于中小规模集成电路、半导体元器件以及声表面波器件的研制和生产的先进设备。其出色之处在于其高度先进的找平机构，可以实现对多种材料的高精度曝光，包括硅片、玻璃片、陶瓷片、铜片、不锈钢片和宝石片等。

工作方式方面，C-43型9英寸国产高精度光刻机采用一次性光刻曝光，即在一次操作中完成曝光的整个过程。

C-43型9英寸国产高精度光刻机主要技术指标：

设备配备了一件承片台，其尺寸可以根据用户的需求进行定制。

曝光头采用了多点光源曝光头，其性能特点如下：

出射光斑直径不超过230mm，采用高压直流汞灯，功率为350W。

在直径为230mm的范围内，光的不均匀性小于±10%。

能够在真空密封条件下进行曝光。

曝光时间可以通过0.1～999.9秒的时间继电器进行设定。

汞灯的位置可以通过精密的x、y、z调节装置进行调整，分别可以调节±5毫米。

具备风扇冷却装置。

分辨率不低于5μm。

具备真空吸片功能。

具有真空密封和反吹气的功能，通过调节密封真空的大小可以实现硬接触曝光（密封真空≤-0.05 Mpa）、软接触曝光（密封真空在-0.05Mpa～-0.02Mpa之间）和微力接触曝光（密封真空≥-0.02Mpa）。

C-43型9英寸国产高精度光刻机主要配置：

一台多点光源曝光头，支持一次性曝光。

曝光面积不小于φ230mm。

曝光不均匀性小于±10%。

曝光强度不低于5mw。

曝光分辨率不高于5μm。

曝光模式为单面曝光。

支持多种掩膜版尺寸，包括3英寸、4英寸、5英寸、6英寸、7英寸、8英寸、9英寸。

基片厚度不超过5mm。

曝光灯功率为350W。

曝光定时范围为0～999.9秒，可调。

电源要求为单相AC 220V 50Hz，功耗不超过1kW。

需要洁净压缩空气压力不低于0.4Mpa。

可以实现真空度在-0.07Mpa～-0.09Mpa之间。

设备尺寸为700×650×1200毫米（长×宽×高），重量约为110kg。

备件包括一台真空泵、一只汞灯和15米φ8气管。